重金属废水反应原理及控制条件：含铬废水处理方法详解

重金属废水反应原理及控制条件：含铬废水处理方法详解

重金属废水反应原理及控制条件 1.含铬废水 2 2.含氰废水 3 3.含镍废水 4 4.含锌废水 5 5.含铜废水 6 6.含砷废水 8 7.含银废水 9 8.含氟废水 10 9.含磷废水 11 10.含汞废水 11 11.氢氟酸回收 14 12.磨削废水 14 13.结晶硅废水 15 14.含铅废水 17 15.含镉废水 171 1.含铬的预处理废水包括镀前准备工序中脱脂、除油工序产生的清洗废水，主要污染物为有机物、悬浮物、石油类、磷酸盐及表面活性剂等。 6+ 3+6+ 电镀废水中的铬以Cr和Cr2O2两种形态存在，其中Cr的毒性最大。含铬废水的处理方法很多，常用的有化学法、电解法、离子交换法等。电镀废水中的六价铬主要以CrO4和Cr2O7两种形态存在。酸性条件下六价铬主要以CrO形态存在，碱性条件下则以CrO形态存在。六价铬的还原在酸性条件下反应较快，一般要求pH<4，通常控制pH为2.5～3。常用的还原剂有：焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、连二亚硫酸钠、硫代硫酸钠、硫酸亚铁、二氧化硫、水合肼、铁屑及铁粉等。

还原后Cr3+生成Cr(OH)3沉淀的最佳pH为7～9，因此铬还原后的废水应进行中和处理。 (1)亚硫酸盐还原法 目前电镀厂化学还原处理含铬废水常采用亚硫酸氢钠或亚硫酸钠作还原剂，有时也采用焦磷酸钠。 六价铬与还原剂亚硫酸氢钠反应： 4HCrO++3HSO==2Cr(SO) +3NaSO+10HO2 43 2 42 4 3 2 4 22 4 2 3 2 42 4 3 2 4 +3NaSO+3HSO==Cr(SO) +3NaSO+5HO3+ 还原后用NaOH中和至pH=7～8，这样Cr就会生成Cr(OH)3沉淀。 亚硫酸盐还原法工艺参数控制如下：①废水中六价铬浓度一般控制在100～/L；②废水pH值为2.5～3③还原剂理论投加量为（重量比）：亚硫酸氢钠：六价铬=4：1偏亚硫酸氢钠：六价铬=3：1亚硫酸钠：六价铬=4：1投料比不宜过大，否则浪费试剂，还可能生成无法沉淀的[Cr2(OH)2SO3]2-；ORP=250～4还原反应时间约30min；⑤氢氧化铬沉淀pH值控制在7～8，沉淀剂可为石灰、碳酸钠或氢氧化钠，根据实际情况选用。

2、含氰化物废水含氰化物废水来自于氰化物镀铜、碱性氰化物镀金、中性和酸性镀金、氰化物镀银、氰化物镀铜锡合金、仿金镀层等含氰化物电镀工艺。废水中的主要污染物是氰化物、重金属离子（以络合物状态存在）等。氰化物镀铜，氰化物镀铜是目前已暂时淘汰的镀铜方法，主要成分是氰化亚铜、氰化钠，Cu(CN)2-以络合离子形式存在。铜离子被氧化，氰化物也被氧化，但Fe(CN)64-被氧化后仍以络合离子形式存在，因此氰离子不能解离氧化，增加了破氰的难度。氰化物镀锌在镀锌工艺中占比很小。 碱性氯化法破氰化物分两个阶段进行，第一阶段为不完全氧化，将氰化物氧化成氰酸盐：CN+OCl +H2O==CNCl++2OH==CNO+Cl +HOCN与OCl反应首先生成CNCl，然后水解成CNO；其反应速度取决于pH值、温度、有效氯浓度，pH值越高、水温越高、有效氯浓度越高，水解速度越快，据报道CNO的毒性仅为CN的千分之一；pH=10～11，ORP=350～380mv；第二阶段为完全氧化阶段，将氰酸盐进一步氧化成二氧化碳和氮气：2CNO+3ClO +H2O==2CO2+N2+3Cl +2OH； pH=7.5～8.5，ORP=600～640mv药剂投加量第一阶段CN：Cl2 =1：3，第二阶段CN：Cl2 =1：4，两阶段加药量合计为CN：Cl2=1：7～8第三阶段为混凝阶段3、加入氢氧化钠，充分搅拌。全程监测混合液pH在9.5～10.5。同时投加PAC，形成悬浮物（在此pH条件下能有效去除铜）。3、含镍废水镀镍废水是指电镀镍过程中产生的清洗水，一般分为电镀镍废水和化学镀镍废水。

镀镍废水成分比较简单，一般为镍离子和硫酸盐等。化学镀镍废水成分复杂，废水中除镍离子外，还含有大量的螯合剂，如柠檬酸、酒石酸、次磷酸钠等。在电镀废水处理标准中，国家表1标准要求镍排放标准不高于1mg/L，国家表2标准要求不高于0.5mg/L，国家表3标准要求不高于0.1mg/L。《电镀废水处理工程规范》要求含镍废水需单独收集，处理达标后方可排入综合池。对于电镀含镍废水和化学镀镍废水，均可采用化学沉淀法进行处理，化学沉淀法不需要复杂的设备。 其中电镀含镍废水可直接通过加碱至11、PAC混凝、沉淀出水，镍即可达标。若含镍废水与预处理废水混合，需在出水加碱后加入少量重金属清除剂进行螯合反应，重金属清除剂可以从低浓度开始处理镍离子即可达标。反应原理：2+-NI+2OH==NI(OH)2（沉淀）反应条件：pH=10~11对于含有螯合剂的含镍废水，应先考虑络合破除，再进行化学沉淀。络合破除方法：酸性条件下次氯酸钠络合破除；（EDTA、胺类）氧化池内pH值控制在2-3，ORP值为450-500mV。 由于原水呈中性或碱性，调节至酸性pH值2-3时要消耗大量酸液，络合破碎后需将碱性pH值调节至8-9左右才能析出铜，消耗碱液量大，处理成本高。

碱性条件下，采用次氯酸钠破络；（柠檬酸、酒石酸）氧化池内pH值控制在10以上，采用双氧水破络，在4原水水质6-8的条件下，双氧水破络效果优于次氯酸钠，双氧水投加量0.34ml/l()，最佳反应时间40分钟，破络后沉淀最佳pH=10.5，但会造成污泥上浮；臭氧破络；-碱性条件下，臭氧分子在·OH的催化下易分解为羟基自由基，羟基自由基比臭氧氧化性更强，反应速度更快，氧化更彻底，最佳反应时间为30分钟，pH控制在7以上（9～10）。 2+2 氧化主要采用由HO和Fe组成的试剂作为氧化剂，在酸性条件下生成强氧化性的羟基自由基，使大分子有机物开环，最终氧化分解。（氧化技术具有一定的适用范围，对含有苯环的物质有很好的去除效果）试剂主要试剂为硫酸亚铁、双氧水和碱。首先通过正交实验得到硫酸亚铁和双氧水的添加比例（如果控制不好容易反色）。然后先调节pH为2-4，加入硫酸亚铁，再加入双氧水，然后按照污泥沉淀处理中pH调节的顺序加入试剂。加入硫酸亚铁后，反应15分钟左右，再加入双氧水，反应20-40分钟后加入碱调节pH值，处理效果会更好。

若确定反应彻底，可以在水中添加非离子聚丙烯酰胺，这样可以帮助加速污泥的沉降。一些高色度、高COD废水使用硫酸亚铁去除率可达90%-95%。(参考值ORP=350mv)CaO、Bacl2(钡盐)4、含锌废水锌是两性元素，它的氢氧化物不溶于水，具有弱碱性和弱酸性，因此，它的化学式可以写成：碱式：Zn(OH)2，酸式：。由于它具有两性，所以能溶于强酸或强碱。在锌酸盐溶液中加入适量的碱，可析出Zn(0H)2白色沉淀，加入过量的碱又会使沉淀溶解； 但反过来，在锌酸盐溶液中，加入适量的酸也能析出Zn(0H)2白色沉淀，加入过量的酸又会使沉淀重新溶解。锌的氢氧化物是两性化合物，pH值过高或过低，都会导致沉淀重新溶解，出水超标。因此，在用化学沉淀法处理含锌废水过程中，应注意pH值的控制。 5 反应原理Zn2+ + 2OH- === Zn(OH)2（沉淀）反应条件：ph=8.5～9，5.含铜废水氰化物镀铜主要用于多层电镀的底层或中间层，如电镀铜/镍、铜/镍/铬、铜/铜/镍/铬、镍/铜/镍/铬等。由于金属铜的电极电位比较正，所以钢铁件上镀铜为阴极镀层，因此对基体起不到电化学保护作用。

装饰性单层镀铜（如灯具）必须采用透明漆保护。电路板、电镀含铜废水大部分为络合铜，也有游离铜。处理水中的游离金属离子，可通过调节碱度使水中金属元素达到共沉淀值或采用聚合硫酸铁、聚合氯化铝等高分子混凝剂进行强化混凝处理。但水中的络合铜稳定性强，用上述方法很难去除，需先进行破碎。络合铜废水中除二价铜离子（Cu2+）外，还有大量的络合铜。 线路板废水中铜离子形成的络合物主要有三种，即铜-氨络合物[Cu(NH3)4]、铜-氯化物络合物[Cu(Cl 2+4]]和铜-EDTA络合物[Cu(EDTA)]。有的线路板厂把络合废水分为氨铜废水（主要污染物为铜-氨络合物[Cu(NH3)2+4]）和氧化铜废水（主要污染物为铜-EDTA络合物[Cu(EDTA)] 2+）。对于铜氨络合物[Cu(NH3)4] 2+、氯化铜络合物[Cu(Cl - ) 4] 2+和铜-EDTA络合物[Cu(EDTA)] 2+，在酸性条件下用硫酸亚铁作为络合破除剂，其机理是绿矾溶解后生成的Fe+具有将络合物中二价铜离子还原为一价铜离子的作用，一价铜离子与氨、DETA和氯离子形成的络合物不再与废水中的二价铜离子发生络合反应，而是与废水中的二价铜离子发生络合反应，使废水中的二价铜离子与氯 ...稳定，一价铜离子易与水中的氢氧离子反应生成氢氧化物，与金属亚铜析出。

以Cu(CN)2-为例（在氰化物镀铜中，铜离子多以一价形式存在），由于铜容易由+1价氧化为+2价，虽然Cu(CN)2-的络合离子稳定常数很大，但是二价铜不能与氰离子形成稳定的络合物，所以Cu(CN)3-仍然容易被氧化，导致+1价铜变成+2价铜，氰化物被氧化。而Fe(CN)64-则不会如此，由于其稳定常数较大，所以在有效氯浓度较低或反应温度较低时，一般不易被氧化。当加强反应条件，将+2价铁氧化为+3价时，由于Fe(CN)63-仍然很稳定，氰离子不会解离或氧化。 6 反应原理：2+ -Cu +2OH == Cu(OH)2（沉淀） 反应条件：pH=9.5～10.5 对于含有络合剂的含Cu废水，应首先考虑破络，再进行化学沉淀。 破络反应 硫化钠法将硫化物（硫化钠）加入含络合铜的废水中，然后加入氢氧化钠，控制废水pH值在9～10之间，再加入适量的聚丙烯酰胺（PAM），生成溶度积很小的不溶性沉淀硫化铜（CuS），在PAM作用下将废水中的铜离子去除。硫化物沉淀法可将含络合铜废水中的铜含量降低至0.5mg/L以下。

在pH=9～10时，硫化钠中的硫离子能与二价铜离子形成稳定的化合物，其稳定常数比二价铜高，被氨水、EDTA、氯离子等置换出来，形成黑色的硫化钠沉淀。但CuS有形成胶体溶液的倾向（能透过滤纸），需要加入絮凝剂才能形成大的絮体一起沉淀下来。用此方法处理PCB复合废水时，由于沉淀池的沉淀效果不好，出水不能稳定达标。另外，由于缺乏在线硫化物监测仪器，工程中往往需要过量的Na2S。过量的S2-使废水产生恶臭，需要投加亚铁盐使其沉淀，否则会造成二次污染。 硫酸亚铁由于在酸性条件下，EDTA-Cu的稳定常数比EDTA-Fe3+的稳定常数小（pH=4时，EDTA-Cu稳定常数lgK3+的对数=10.2，EDTA-Fe稳定常数lgK3+的对数=14.7），因此在PCB复合废水中加入Fe3+可以取代Cu2+，即将络合铜离子转化为游离铜离子，然后提高废水的pH值，即可使Cu2+完全沉淀出来，实际工程中多加入硫酸亚铁。 在酸性条件下，通过机械或空气搅拌，部分Fe2+被氧化为Fe3+（有资料认为在此过程中二价铜离子会被还原为一价铜离子，而一价铜离子与氨、DETA、氯离子形成的配合物已不再稳定，而一价铜离子易与水中的氢氧离子发生反应，生成氢氧化物并通过亚铜沉淀出来）。EDTA-Cu中的Cu2+被Fe3+取代，再加入NaOH使pH值升高到9左右，生成Cu(OH)2、Fe(OH)3、Fe(OH)2沉淀。Fe(OH)3生成的矾花絮体较大，吸附性更强，沉淀速度更快，加速了铜的去除。

该方法在工程上有许多成功案例，出水中总铜一般低于0.5mg/L，但也有其缺点：7投加量大，产生的污泥量大。氧化法是在废水中加入强氧化剂，使铜的配位离子氧化，释放出Cu2+，然后再加碱使其沉淀下来，常用的氧化剂有NaCLO、试剂等。采用试剂氧化法处理电路板沉铜车间排出的EDTA-Cu废水，最佳反应条件为：pH值3左右，反应时间1h，H2O2/COD=2.0，FeSO4投加量10g/L，达到了去除络合铜离子，降低COD的目的。氧化分解法不但可以沉淀Cu2+，而且可以降低废水的COD和NH3-N。 其方法简单，操作方便，但需要加入的氧化剂用量较大，试剂成本高，厂家很少采用。（参考分解含镍废水）次氯酸钠氧化分解可参考含氰化物废水处理工艺（铜氰化物）-氯气氧化法。重金属清除剂重金属清除剂是一种水溶性螯合物，能和多种重金属形成稳定的不溶性物质，利用重金属清除剂与铜离子结合形成较稳定的螯合物，形成沉淀去除。在pH为7，DTCR/FeCl3为14，搅拌时间40min的条件下，DTCR对铜的去除率高达99.8%，且不受共存络合物的影响。

采用重金属捕收剂处理含铜废水，方法简单，操作方便，但重金属捕收剂一般价格昂贵，处理费用高。6、含砷废水含砷废水呈酸性和碱性，一般还含有其他重金属离子。含砷废水中砷的存在形态受pH值影响较大，在中性条件下可溶性砷的量达到最大，随着pH值的升高或降低，溶解性砷的量会降低。当pH值为5.0时，溶液中的砷主要以无机砷的形式存在，当pH值为6.5时，有机砷为其主要存在形态。但由于含砷废水的来源并不单一，其成分也是复杂多变的。传统处理含砷废水的方法主要采用化学沉淀法，根据具体情况又可分为砷酸钙法和硫化砷法。 砷酸钙法是利用石灰、铁盐、高分子絮凝剂，使砷与这些物质发生中和、脱砷、吸附等作用，产生架桥、共沉淀作用，去除废水中的砷。反应原理：3Ca(OH)2+=Ca3(AsO3)2(悬浮物)+(OH)2+=Ca3(AsO4)2(悬浮物)+6H2O8当水中有大量钙离子共存时，亚砷酸根和砷酸根会与过量的钙离子发生反应，生成亚砷酸钙和砷酸钙沉淀。在沉淀过程中，不溶性砷酸钙的生成主要与钙离子浓度、氢氧离子浓度有关。

当pH=10时砷酸盐及亚砷酸盐被氢氧化物取代，使部分砷重新溶解于水中，因此终点pH值控制在10以下；石灰-铁盐法先用石灰中和含砷废水，使pH=10～11(含砷废水多呈酸性)，然后加入双氧水和铁盐(二价铁，类似)，使砷被氧化后与石灰反应生成砷酸钙沉淀，二价铁离子也被氧化水解生成氢氧化铁，由于氢氧化铁胶体表面积大，吸附能力强，能对As2O3、Ca3(AsO3)2、Ca3(AsO4)2等杂质进行吸附沉淀。 Ca(OH)2 +H2SO4=CaSO4↓+ +Fe3+ = ↓+3H+3Ca(OH)2 +=Ca3(AsO4)2↓+ (OH)3+ = ↓+3H2OS由于砷酸铁难溶于水，而亚砷酸铁在水中有一定的溶解度，因此，在处理前必须将废水中的三价砷氧化成五价砷才能得到满意的效果。另外，生产中所用的铁盐不是三价铁，而是FeSO4，也需要氧化。为了不引入新的杂质，生产中选用双氧水作为氧化剂。 +H2O2=+H2O（7 ）2Fe(OH)2+ H2O2 =2Fe(OH)3（8）在除砷过程中，如果废水中存在锑盐，也会发生类似的反应，并将其去除。

7、含银废水从含银废水中回收银的主要方法有沉淀法、电解法、离子交换法和吸附法等。从含银废水中回收银的沉淀法是向含银废水中加入适当的阴离子，使废水中的银离子以沉淀形式富集，再经过滤、洗涤、干燥后得到银沉淀物。目前应用最广泛的沉淀方法是氯化银沉淀法，通过加入氯化钠或盐酸溶液使银离子转化为氯化银沉淀，富集银离子。它可以克服银离子与其他金属离子共沉淀的缺陷，所以氯化银沉淀法是从多种金属离子混合的废水中回收银的首选方法。9有时，为保证银离子完全沉淀，一般加入过量的沉淀剂，但过量过多也会形成可溶性氯化银络合物，增加溶解度。 硫化银沉淀法是通过加入Na2S使银转化为Ag2S沉淀来富集银的。由于Na2S容易使其他金属离子沉淀，如果含银废水中还含有其他金属离子，则得到的Ag2S沉淀中也会含有其他金属离子沉淀，导致Ag2S沉淀的纯度较低。反应原理：（1）Ag-+OH===AgOH（沉淀）2AgOH（s）===Ag2O+H2O（2）Cl-+Ag+===AgCl（沉淀）最佳ph=6.3-10.7（理论值）电镀含银废水处理中沉淀剂选择的对比实验研究。对于含氰镀银废水的处理，可以采用次氯酸钠来破氰，但必须控制次氯酸钠的加入量。 氰化物能被彻底氧化，银沉淀回收率可达90%，可供含氰废水处理参考。

8、含氟废水多晶硅生产废水主要产生于三个工序，其中制绒工序、蚀刻工序的排放水含有氟离子，同时含有酸碱污染；二次清洗工序产生的废水主要污染特点是极强的酸性（主要是氢氟酸）和氟离子污染。对于含氟（酸性）废水，主要是除去氟离子和调节到合适的pH值。因此在工艺上选用物理化学的方法将废水调节到合适的pH值，同时加入钙化合物，利用F-与Ca2+反应生成不溶性的CaF2沉淀，从而将液相中的氟离子转移到固相中，从水中除去。其反应原理为：2+-Ca+F=CaF2（沉淀）从运行管理上看，用氢氧化钠进行中和含氟废水pH调节是比较理想的。 从运行成本角度考虑，虽然石灰可以发生中和反应，钙和氟反应生成氟化钙沉淀，达到除氟的效果。但石灰渣量大，产生的污泥为危废，处理成本很高，因此采用“烧碱+氯化钙”组合，整体上可以达到药剂成本相对均衡。Ph=12，需要较高的钙氟比。混凝反应阶段：10铝盐絮凝除氟过程中生成的表面积很大的无定形Al(OH)3(am)前驱体对氟离子产生氢键吸附，氟离子半径小，电负性强，所以这种吸附方式容易发生。络合物沉淀：F-可以与Al3+生成6种络合物，从AlF2+、AlF2+、AlF3到AlF63-，通过络合物沉淀去除F-。

络合离子反应方程式为： F-+ Al3+ →AlF2+ ↓+ AlF2+ ↓+ AlF3 ↓+ AlF4- ↓+ AlF52- ↓+ AlF63- ↓ 9、含磷废水钙基除磷 沉淀法除磷中，化学沉淀剂主要有铝离子、铁离子和钙离子，其中石灰与磷酸盐生成的羟基磷灰石平衡常数最大，除磷效果最好。在含磷废水中加入石灰，钙离子与磷酸盐发生反应，生成沉淀，反应式为： 2+ -4-5Ca +7OH+3H2PO =Ca5(OH)(PO4)3↓+6H2O（1）2+ 2- 副反应： Ca +CO3 =CaCO3↓（2） 反应（1）的平衡常数为KS0=10-55.9。 从以上反应可以看出，除磷效果取决于阴离子相对浓度和pH值。从公式（1）可以看出，磷酸盐在碱性条件下与钙离子反应生成羟基磷酸钙，且随着pH值的升高反应趋于完全，当pH值大于10时，除磷效果较好，可保证出水中磷酸盐的质量浓度达到0.5mg/L的标准。反应（2），即钙离子与废水中的碳酸根离子反应生成碳酸钙，对于钙基除磷非常重要，它不仅影响钙的投加量，而且生成的碳酸钙可作为加重剂，有助于废水的浓缩澄清。对于钙基除磷，pH控制在11～11.5，出水经中和后排放或回用。

10、含汞废水汞主要消耗在氯碱工业，用于DOWN或其他类似的电解槽，其次是电力电子工业。此外，炸药制造工业、农药防腐剂生产、照相工业也需要用到汞。在化学和石油化学工业中，汞用作塑料生产和加氢、脱氢、磺化、氧化、氯化和酸水解反应的催化剂。排入水体的汞及其化合物经过物理、化学和生物作用，会形成各种形态的汞，甚至可能转化成剧毒的甲基化合物。含汞废水的危害早已被人们认识到，并已开发出多种物理和化学处理方法。但这些方法仍存在许多缺点，制约了其广泛的工业应用。含汞废水仍然是环境污染的重要来源之一。 针对含汞废水已发展出多种物理、化学处理方法，主要针对无机汞，针对有机汞的处理方法尚处于研究阶段。含汞废水的处理和汞的回收通常同时考虑，传统的处理方法主要有化学沉淀法、金属还原法、活性炭吸附法、离子交换法、电解法、微生物法等。化学沉淀法是处理含汞废水常用的方法，可以处理不同浓度、种类的汞盐，特别是汞离子浓度较高时，应首先考虑采用化学沉淀法。常用的化学沉淀法有混凝沉淀法和硫化物沉淀法。混凝沉淀法：其原理是向含汞废水中添加混凝剂（石灰、铁盐、铝盐）。 在pH 8~10的弱碱性条件下，形成的氢氧化物絮凝体对汞离子有絮凝作用，导致汞共沉淀。

例如，如果原始水的汞浓度为0.3〜0.6mg/l，在石灰中和和FECL3凝结和沉淀后，废气的汞浓度在液化中降低至0.05〜0.1mg/L。两种方法都可以将含94％的汞含量降低98％。 结果表明，铁盐可以有效去除汞，而铁盐的去除效应比铝盐更好地报告了同样的结果。但是，当初始汞浓度较低时，明矾和铁盐的凝结治疗效果相似，在0.5〜5.0μg/l的情况下，汞含量很低。 治疗后，汞含量可以减少到0.02〜0.03mg/L，但该方法不如硫化钠方法有效，用于含汞的废水，具有高浓度和清晰的水质。

硫化物的降水是一种非常优越的方法，也是汞中最广泛的化学沉淀方法，大多数都难以在水中溶解，除了硝酸盐和氯化物中，HGS和HG2中的HG2均可及时降低。浓度很高，硫化物降水方法可以使化学降水量超过99.9％。超过99.9％。 但是，即使对活性碳进行过滤或深层处理，废水中的最小汞含量为10-20μg/L。当pH值在9.0中，降水量最高时，降水效应是二A型均可降低pH值。 ，由于S2的溶解度会增加，因此将形成可溶性的硫磺配合物。治疗将导致污染问题。

近年来，为了使这种方法更加完美，各个国家都进行了广泛的研究，将这种方法与其他方法相结合，并取得了良好的效果。由于硫化物的降水颗粒非常细，因此大多数悬浮在废水中，尤其是在低温下产生的硫化物，或者在分散体中，这是不容易沉淀的，并且根据硫化物的降水量均与钢铁含量的含量相关。 一些工厂使用硫化钠和明矾以两步的汞含量为25mg/L，并且排放水的汞含量可以减少到0.006〜0.05mg/l治疗后，由于销量的添加量可以提高降水效率，因此均可提高销量。环境可接受的方式或进一步用于恢复有机汞废水。 所用的水氟酸废物液体通常具有1-10％的有效浓度，但包含大量悬浮的固体和颗粒物，这使得废物液体无法重复使用，因此，传统的降水分离过程无法有效地分离悬浮物中的物质和水氟酸。

由于悬浮的颗粒的浓度非常高，因此不适合通过传统的过滤器，过滤器元素，袋子过滤器或超滤分离，同时颗粒的沉积物非常差，因此不适合使用固体酸和固定酸，因此不适合使用固定型。固定液体分离的过程。以氧化物的形式存在吞吐量。 The main come from the in the , SiO2, Al2O3 and CeO2 ( oxide), and some that fall from the wafer (such as , metal and low , etc.). and . The by fluid, , agent, and . It is by high COD and SS , BOD and very poor . The in CMP , metal and other . In order to the above on the wafer , a large of water is in the CMP .

is by , in which the main in the are SS, , fluid, etc. For this type of , the most used and in China is to use to treat it. The is used to the pH value and the salt is added to treat it, so that the SS in it is from the main body of the in the form of and . is the of and of in water. After using to the pH value (8-9.5, , so that Cu+2, Fe+2, Fe+3 and other ions are into ) and to the water, the and of the form under the of , and they and with each other the , and their size and mass to , and the rate to . 悬浮物的去除速率不仅取决于沉积速率，而且还取决于沉积深度。13。硅废水晶体硅是制造整体电路和光伏太阳能电池的关键基本材料例如，具有复杂的成分，将单个晶体杆切成薄片，通常会形成0.3毫米厚的硅晶状体。 PO4，NAOH，IP4，等。

因此，在太阳能光伏电池生产中产生的水污染物包括酸碱废水，含氟的废水等。以下是废水生产的主要联系：（1）表面腐蚀：在制造电池之前，必须制造电池，必须准备硅胶的表面，包括清洁式的硅酸盐和硅酸盐的化学物质。硅晶片用于去除硅晶片表面的切割损伤，以获得适合接线需求的硅表面（2）纹理。 the of is acid , which is added by acid and acid, and the of acid is used to the dirt on the wafer after , in pits on the of the wafer, the of light by the wafer and the , so as to the of an anti- on the wafer. (3) of - glass (PSG) and edge PN : , the wafer is in HF to the - glass. At the same time, the layer on the of the wafer the is to the short the and of the . The of is very , -, acid-base, and , and there is a large of SS. 因此，治疗过程的原理应基于屈光和中和，并结合去除有机物的治疗过程，以实现更好的治疗效果。

该过程的原理是：添加可以在污水中形成氟的物质，例如：钙离子和氟化物离子11组合形成氟化钙，而氟化钙是氟化钙的溶解性乘积（钙的溶解性乘积是314×10）。例如：氟化钙在铝盐或铁盐中溶解时形成一个复合物。 （请参阅含氟的废水的处理），由不同部门产生的废水具有不同的特征：1。多硅氧核酸盐是通过在减少三氯烷硅烷的水中产生的尾巴的水。 HCl硅烷醇和脱水向多硅氧烷和硅酸， Acid等。废物是酸性的，Sio2的粒径极小，大部分将团块和液体浮在水面上。在硅粉中。 废水的主要物质是：抛光剂中的抛光液的组成。叶绿素后的叶绿素和氯丙烷的叶绿素是催化的。 。

电池行业是铅废水的主要来源。 。

15.由于耐腐蚀性和固定性，它包含镉垃圾和镉，以生产电池，塑料，颜料和试剂。 te虫可以通过矿山的成分和冶炼水的成分来氧化，除了镉，还含有铜，铅，锌，镍等金属离子。 化学物质，吸附方法，离子交换方法，氧化和还原方法，铁氧体方法，膜分离方法等。必须准备破坏这些络合剂，因此电镀废物液体和冲洗水的有效沉淀取决于络合剂的前处理状况。

最常用的方法是在碱性状态下进行CD2+的CD（OH）2。氧化），氧化的第二步是二氧化碳和氮（称为完全氧化）（请参阅中和方法的处理）。首先。 碱性状态下镉离子的水解反应如下：2 ++ 22CD+2HO === CD（OH）↓+2H，这种反射有助于CD（OH）2的沉淀（OH）2，而碱的增加可以完全沉淀。