次氯酸钠破络 半导体生产行业强络合镍废水预处理破络装置及处理方法

2024-06-28 10:05:07发布    浏览94次    信息编号:76893

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次氯酸钠破络 半导体生产行业强络合镍废水预处理破络装置及处理方法

本实用新型涉及工业废水处理技术领域,具体涉及一种半导体生产行业产生的强螯合镍废水的预处理及破螯装置。

背景技术:

半导体生产过程中的镀镍工序会产生大量的含镍废水。与传统电镀行业废水不同,半导体行业含镍废水具有一些独特的特点:EDTA络合镍比例大、废水电导率低、氨氮浓度高。传统的含镍废水处理方法并不完全适用于该废水的处理回用。例如物化沉淀法、离子交换法、吸附法无法破坏EDTA-Ni螯合物的环状结构,导致沉淀水总镍含量不达标;、电解等氧化预络合法无法充分打断EDTA-Ni络合物,产生大量污泥,后期成本较高。

专利文献(A)公开了一种化学镀镍废水零排放处理方法,主要包括和UV光催化氧化预处理、均质膜、反渗透等工艺组合。但当废水中含有EDTA等强络合剂时,和UV光催化氧化预处理投加量较大,出水水质仍不能满足高标准排放要求(《电镀工业污染物排放标准》(-2008)表3,以下简称表3标准)。同时,氨氮也不能得到有效去除。

因此迫切需要一种处理效果更优良的含镍废水处理方法,能够将含镍废水处理至达到排放标准。

技术实现要素:

发明目的:本实用新型提供一种含强螯合物废水中螯合物的破除装置,解决现有技术中处理低浓度强螯合镍废水时螯合物破除不充分,导致出水中总镍不能达标排放、废水回用率低的问题。

技术解决方案:本实用新型公开了一种强酸性废水络合物破除装置,包括依次连接的含镍调节池、pH调节池、铁碳微电解池、池、氧化及氨氮去除池、还原池、加碱池、沉淀池。

其中,pH调节罐上设有酸、碱添加口。

其中,罐上设置有试剂添加口。

其中,还原罐上设有还原剂添加口。

本实用新型提供了一种强络合镍废水的络合破除装置,包括铁碳微电解、反应、氧化去除氨氮、还原反应四个主要部分,其技术方案如下:

含镍废水进入含镍调节池,经提升泵输送,进入pH调节池调节pH为3-5。然后靠重力流入后续的铁碳微电解槽。在酸性条件下,铁碳填料中的铁和碳形成原电池,发生氧化还原反应,可以有效降解有机物,从而达到分解的结果。

然后进入槽,在二价铁催化下过氧化氢产生的羟基自由基将复合物降解,进一步增强复合物的破环效果。

然后依次进入氧化脱氨氮槽,在氧化脱氨氮槽中次氯酸钠与氨氮发生反应生成氮气,在还原槽中通过加入还原剂将前端工序加入的过量氧化剂还原,还原水调节pH为碱性后生成氢氧化镍沉淀,去除镍离子。

铁碳微电解槽底部设有曝气均质装置,槽内设有铁碳填料,水力停留时间为30min~。

池上设置有试剂加药口,通过加药装置向池中定量加入FeSO4和H2O2,H2O2投加量为1.0~2.0g H2O2/g COD,FeSO4投加量为0.4~0.6g FeSO4/g H2O2,反应时间为30min~。

氧化氨氮去除池上设置氧化剂加药口,通过加药装置向池中定量加入NaClO,投加量为8~15g有效氯/g氨氮,反应时间为20min~40min。

还原池内设有还原剂加药口,加药装置可根据池内氧化还原电位来投加还原剂,根据氧化还原电位来调整加药量,维持池内氧化还原电位<150mV。

加碱槽pH调节为8.5~12.0,不添加絮凝剂、混凝剂。

沉淀池为竖流式沉淀池,碱池水进入沉淀池中心筒体,沉淀时间为1h~3h。

沉淀池出来的污泥定期外排,经污泥处理后经过滤,过滤成泥饼外购处理。

有益效果:本实用新型公开的强废水络合物破碎装置具有如下优点:

1)铁碳微电解、氧化、氧化除氨氮的工艺组合充分考虑了该类含EDTA络合镍、高氨氮废水的水质特点,经该装置处理后,可提高络合破除效果,提高后续除镍系统的效率。

2)铁碳微电解结合反应较直接反应节省试剂成本。

3)该装置充分利用了铁碳微电解及中铁元素,加碱后即可生成絮凝剂,无需另外投加混凝剂。

4)工艺简单,设备成本低,实用性强。

附图的简要说明

图1为强力废水复合破碎装置的框架示意图。

详细方法

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。

例子

含镍废水进入含镍调节池1收集,含镍废水水质为:COD含量50~100mg/L、总镍含量3~8mg/L、EDTA含量2~4mg/L、氨氮含量50~150mg/L、电导率小于500μs/cm,经浓缩处理后收集于调节池。强络合镍废水经提升泵7输送至pH调节池2,调节pH为3,进​​入铁碳微电解池3进行曝气反应,利用重力作用进入池4,加入2.5L/h的H2O2(30wt.%)和33L/h的FeSO4(10wt.%)进行氧化反应,使络合镍破碎。 反应后水流入氧化及脱氨氮罐5,加入140L/h NaClO(10wt.%)进行氧化反应,进一步解络合镍,去除氨氮;然后水进入还原罐6,加入NaClO(10wt.%)进行还原反应,控制氧化还原电位小于150mV,还原过量的氧化剂。

使用螯合破除装置破除螯合物后,再用碱沉淀法除镍,出水中总镍浓度为0.4-0.5mg/L;而直接用碱沉淀法除镍,出水中镍浓度大于1.0mg/L。使用强螯合废水螯合破除装置后,除镍效率提高50%,出水中总镍可满足《电镀工业污染物排放标准》(-2008)表2标准。

本实用新型提供了一种强力废水复合破碎装置的思路和方法,该技术方案的实现方法和方式有很多种,以上仅为本实用新型的优选实施方式。需要指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型的原理的情况下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。本实施例中未尽事宜均可采用现有技术实现。

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