CMF 抛光工艺:机械、电解、化学、纳米抛光的优劣势对比
2024-05-28 18:08:17发布 浏览213次 信息编号:73257
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行业的发展离不开CMF(色彩、材质、工艺)
抛光是指利用机械、化学或电化学作用,降低工件表面粗糙度,以获得光亮(部分用于消除光泽)、平整表面的加工方法。目前广泛应用于手机等消费电子、家电、汽车等各个行业。
图 电子烟外壳抛光产品,来自随联自动化
抛光是传统且必要的制造工序,但同时抛光过程中会产生大量粉尘,严重危害车间及工人的健康,环保问题备受关注。抛光工艺种类繁多,包括机械抛光、电解抛光、化学抛光和纳米抛光等,今天我们就来看看这四种抛光工艺的优缺点。
图为打磨抛光车间,由春草研磨提供
1.机械抛光
机械抛光目前在各制造业中应用十分广泛,它是在专门的抛光机上进行的,抛光机主要由电动机和抛光盘组成。根据被抛光产品的材质不同,在抛光盘上放置不同材质的抛光耗材,粗抛、精抛使用不同的耗材。抛光时,应将试样的研磨面均匀平整地压在旋转的抛光盘上,压力不宜过大,应使盘从边缘向中心作径向往返连续运动,利用极细的抛光粉(液)与研磨面的相对研磨滚动作用,消除磨痕,获得光亮的镜面。
抛光耗材
机械抛光的优缺点:
图 不锈钢中框镜面抛光产品
2.电解抛光
电解抛光是阳极抛光的一种,是在特定的电解液和适当的电流密度下,利用阳极先溶解金属表面微观凸起的原理进行的电解过程,又称电抛光。目前不锈钢电解抛光受到越来越多企业的青睐,是一种环保的抛光。
图1 不锈钢小件电解抛光对比
它既可用于电镀前的表面处理,又可用于镀后的表面精加工,亦可作为金属表面独立的精加工方法,目前已广泛应用于轴承、反光镜、刀具、量具、自行车零件、纺织机械零件、医疗器械等加工领域。
注:电解液通常由三种成分组成:(1)氧化性酸,它是电解液的主要成分,例如高氯酸、铬酸、正磷酸等;(2)溶剂,用来稀释酸,能溶解研磨过程中产生的膜,例如酒精、醋酐、冰醋酸等;(3)水。
图电解抛光原理示意图
电解抛光的优缺点:
图电解抛光
3.化学抛光
化学抛光与电解抛光类似,是用化学试剂通过化学腐蚀,消除磨损痕迹,并将试样表面不平整的地方腐蚀平整的方法。化学抛光设备简单,可处理细管、深孔、形状复杂的零件,生产效率高。化学抛光可作为电镀的前处理工序,也可在抛光后采取必要的防护措施后直接使用。
图 添加环保光亮剂的化学抛光产品
化学抛光的优缺点:
图 化学抛光工艺流程
4. 纳米抛光
纳米抛光又叫等离子抛光,是一种新型环保抛光工艺,纳米抛光所用的抛光液氧化物颗粒细小、坚硬,所以抛光时不会产生划痕,抛光效果好,广泛应用于消费电子、家具、医疗、汽车、航空航天等领域。
与传统抛光工艺相比,纳米抛光具有以下优点:
1.非常环保
纳米抛光液非常环保,其废液可直接排放,不造成污染,或稍加处理即可回收利用,不会污染加工环境,符合绿色制造的发展方向。
2.操作简单
等离子纳米抛光采用专用自动控制设备,操作简单,维护方便;
3.成本低
加工成本低,利于推广,并可减少操作人员,降低人工成本,同时也可为客户节省大量因手工机械抛光、电解抛光、化学抛光等传统抛光方式造成的材料消耗;
4.效率高
自动控制设备通过特殊试剂,可在十秒到两分钟内达到电镀镜面效果,大大提高了生产效率;
5.抛光质量好
自动化控制设备抛光出来的产品质量高,控制精度极高,尺寸影响小,抛光均匀,使整个工件表面及死角均能达到一致的镜面效果,还能提升产品表面的化学性能;
6.应用范围广泛
四种抛光工艺的比较
表 不同抛光工艺对比
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