AlSi10Mg 基体的 SiCp/Al 复合材料:激光选区熔化成型技术的应用前景
2024-08-08 13:10:36发布 浏览65次 信息编号:81753
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AlSi10Mg 基体的 SiCp/Al 复合材料:激光选区熔化成型技术的应用前景
铝合金具有流动性好、热裂倾向小、气密性好、收缩率小等显著优点,以及强度高、力学性能好等特点,在汽车、航空航天等领域得到了广泛的应用。新型基体碳化硅颗粒增强铝基(SiCp/Al)复合材料具有质量轻、热导率高、抗热震性好、比刚度高、抗磁性和抗冲击性好、膨胀系数小、密度适中等一系列性能特点,被认为是当代具有较高应用价值的复合材料之一。选区激光熔化(SLM)成形技术是近年来最先进的增材制造技术之一,该方法利用高功率密度激光将粉末逐点、逐线、逐层熔化,大大缩短了零件的制造周期。 采用选区激光熔化(SLM)技术制备的SiCp/Al复合材料具有较高的综合性能,在国防军事、航空航天、民用、电子封装等领域得到了广泛的应用。但该技术制备的SiCp/Al复合材料仍然存在硬度低、耐磨性差、加工困难等缺点,化学镀是解决这些问题的有效方法。
化学镀是材料表面改性技术的重要方法之一,其成本低廉、设备简单、镀层均匀,可用于形状复杂的物体,因此受到学者们的广泛研究。化学镀时间是影响镀层厚度、硬度、表面形貌等的关键因素,但有关化学镀时间的研究较少,特别是针对SLM成形SiCp/Al复合材料的研究。本文采用化学镀的方法在激光选区熔化(SLM)技术成形的SiCp/Al复合材料表面制备Ni-P镀层,并研究了化学镀时间对镀层微观形貌、厚度、硬度、结合强度等方面的影响。
实验部分
1.1 材料
本实验所采用的实验原材料为采用激光选区熔化(SLM)技术制备的SiCp/Al复合材料,SiCp/Al复合材料基体为球形颗粒,平均粒径为30μm;增强颗粒为SiC颗粒,平均粒径为10μm,颗粒形状为多边形。
实验所需原材料如表1所示。
表1 实验原料
表2 合金化学成分
1.2 实验方法
采用二次镀锌预处理工艺对SiCp/Al复合材料进行预处理,具体工艺步骤及条件如表3所示。每步之间必须用去离子水冲洗样品,防止上一步的残液进入下一步。碱性预镀和化学镀均在水浴中进行,镀1h后更换另一份相同浓度的新镀液,直至设定的镀覆时间完成。
1.3 性能测试
1.3.1 表面形貌和截面厚度
利用扫描电子显微镜对镀层组织进行观察分析,利用EDS能谱仪对镍磷镀层成分进行分析。
试样镶嵌丙烯酸粉末后,用粗糙度为240#、600#、1000#、1500#的金相砂纸对横截面进行打磨,然后使用扫描电子显微镜检测涂层厚度,在涂层横截面上取5个不同点进行测量,取平均值。
1.3.2 显微硬度
硬度测试采用显微维氏硬度计,加载力设定为100g,持续时间为15s,共测试5个数据点,计算平均值。
1.3.3 相结构
采用XRD-6000型X射线衍射仪对涂层相结构进行检测分析,衍射射线源为Cu靶K”,仪器速度为1000°/min,重复性精度可达±0.001°,功率为2kW(40kV×50mA),扫描范围为20~80°,扫描速度为4°/min。
1.3.4 胶合强度
采用WS-2005涂层附着力自动划痕试验机结合热冲击试验,测试涂层与基体的结合强度。自动划痕试验机采用声发射模式,动态载荷法,通过声发射信号与载荷变化的对应曲线,得到涂层与基体的结合强度(涂层破坏瞬间的临界载荷)。实验设定加载速率为60N/min,试验载荷为100N,划痕长度为5mm,往复次数为2次。
表3 预处理及化学镀工艺步骤及条件
热冲击试验按GB/T5270-1985标准进行,将试样在220℃炉内保温1小时,然后迅速浸入常温水中10分钟,以上操作重复3次,观察涂层表面是否有气泡、脱落等现象。
结果与讨论
2.1 对涂层表面形貌的影响
图1为不同镀镍时间下SiCp/Al复合材料的表面形貌,其中图1(a)为化学镀镍0.5h后的扫描照片。可以看出,镍磷颗粒形状近似球形,以原子团簇状沉积在SiCp/Al复合材料表面。由于镀镍时间较短,SiCp/Al复合材料表面Ni沉积较少,颗粒较小,镀层不均匀,且存在一些孔洞和缝隙,镀层不完整,不够均匀致密。与镀镍时间为0.5h的微观形貌照片相比,镀镍1h后SiCp/Al复合材料表面Ni沉积较为均匀,但镀层仍然不均匀。化学镀镍4h后的镀层表面更加均匀致密,无明显缺陷,胞状结构更加均匀。 与镀镍时间较短的表面形貌相比,镀镍6h后的胞状结构明显变大。从镀10h和12h后的表面形貌照片可以看出,镀层致密、连续、均匀、趋于平整,胞状结构较大、晶界模糊。从化学镀镍磷合金的生长机理可以看出,镍磷粒子首先沉积在锌晶粒处、基体的缺陷处、锌晶粒之间及最先沉积的镍粒子处。随着化学镀的进行,镍的自催化作用使其继续沉积在已生长的粒子处,大颗粒逐渐合并,使得镀层表面更加光滑均匀,晶界逐渐模糊,最终呈现出图1所示的形貌。
2.2 对涂层相结构的影响
为进一步确定Ni-P镀层的结构,对不同镀层时间的样品进行了XRD测试,如图2所示。可以看出,化学镀0.5h后仍有Al衍射峰。化学镀2h后,在2θ=45°附近出现弥散散射型衍射峰。通过能谱分析发现,Ni-P合金镀层中磷和镍的质量分数分别为12.16%和87.84%。文献报道,对于磷组分较高的合金(>10%),只能形成非晶态的Ni-P固溶体结构。随着化学镀时间的增加,Al峰几乎消失,Ni峰明显。镀6h后,没有出现其他峰,2θ=45°处的衍射峰宽且弥散散射,即镀层为非晶态结构。 当磷含量较高时,P原子进入Ni晶格,使Ni晶格发生一定程度的畸变,形成非晶态固溶体,因而呈现出非晶态的特征。化学镀30min和1h的镀层并不是完全的非晶态组织,可能是由于镀层较薄,镀层不均匀造成的。
图1 不同化学镀时间后镀层表面形貌
2.3 对涂层厚度和沉积速率的影响
不同施镀时间下镀层截面形貌如图3所示。从图3中可以看出,化学镀镍时间为2h时,镀层厚度约为35μm;镀镍时间为4h时,镀层厚度约为60µm;镀镍时间为6h时,镀层厚度约为75µm;镀镍时间为8h时,镀层厚度约为100µm;而镀镍时间为10h时,镀层厚度可达120µm;化学镀时间为12h时,镀层厚度约为135µm。从图3还可以看出,镀层与基体结合紧密,厚度均匀,无裂纹、脱落、孔隙等缺陷。
图2 不同化学镀时间Ni-P镀层的X射线衍射图
图3 不同化学镀时间下镀层横截面厚度的SEM像
为了更加清晰的看到沉积速度与镀镍时间的关系,做了如图4所示的变化曲线。可以看出,化学镀时间为1h时沉积速度最大,约为17.5μm/h,化学镀时间为10h时沉积速度约为12.0μm/h,即随着镀液时间的增加,镀层厚度逐渐增加,沉积速度逐渐减小。如果样品在镀液中放置较长的沉积时间,则可以获得较大的厚度。
2.4 对涂层附着力的影响
评价镀层质量的一个重要指标就是镍磷镀层与基体的结合强度,镀层与基体的结合强度将直接影响镀层的性能。采用热冲击法测定镀层在不同时间的结合强度,即将不同化学镀时间后的试样放入热处理炉中加热至220℃,保温1h,再放入冷水中快速冷却10min,重复操作3次,观察镀层无起皮、脱落现象,用WS-2005镀层附着力划痕仪测试不同镀层时间所得镀层的结合强度,如图5所示。可以看出,在不同化学镀时间下,镀层与基体均具有良好的结合强度,结合强度高达70.0N,当镀层时间为8h时,结合强度高达77.2N。镀层与基体的结合强度主要由前处理工艺决定。 经过化学镀前的二次浸锌前处理工艺(除油、浸蚀、一次浸锌、除硝酸、二次浸锌、碱性预镀)提高镀层与基体的结合强度。
图4 沉积速率随化学镀时间的变化
2.5 对涂层硬度的影响
镀层显微维氏硬度与施镀时间的关系如图6所示。施镀1小时后,镀层平均硬度为388.2HV;施镀2小时后,镀层平均硬度为448.6HV,明显高于施镀1小时后的镀层厚度;施镀8小时后,镀层平均硬度为653.4HV,而当施镀时间为12小时时,镀层平均硬度为685.6HV。也就是说,随着施镀时间的延长,镀层的显微硬度先增大后趋于稳定在388.2~685.6HV之间。这与镀层厚度随施镀时间的延长而变化有关。施镀时间短时,镀层较薄,镀层不均匀,存在孔隙等缺陷,抵抗塑性变形的能力较弱。 同时,所获得的显微硬度实际上是镀层与基体的综合硬度,因此相对较低。随着施镀时间的增加,镀层逐渐增厚,Ni粒子慢慢由小颗粒聚集长大,大颗粒在SiCp/Al复合材料表面横向聚集生长,慢慢填充表面的孔洞、裂纹,表面Ni层逐渐变得均匀致密,提高了其抵抗塑性变形的能力,提高了其硬度。
图5 不同化学镀时间镀层结合强度
图6 不同化学镀时间镀层的显微维氏硬度
综上所述
(1)施镀时间对镀层表面形貌、厚度及显微硬度影响较大,随着施镀时间的延长,表面胞状结构逐渐变大,镀层逐渐增厚,但增厚速率逐渐减小,显微硬度呈现先增大后趋于稳定的趋势。
(2)在本研究的化学镀工艺条件下,获得的镀层为非晶态结构,磷含量较高的镀层,镀层与基体结合强度较高。当镀层时间为8h时,可获得厚度为100μm的镀层。此时镀层硬度为653.4HV,结合强度为77.2N。
(3)延长施镀时间可以改善镀层表面形貌质量和增加镀层厚度,减少镀层表面孔洞等缺陷,使镀层表面更加致密、均匀。
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